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ASML可用于制造7nm、5nm芯片DUV光刻機(jī)將實(shí)施出口管制
2023-03-10 1121次

  2022年3月8日消息，光刻機(jī)巨頭ASML官網(wǎng)發(fā)布了一則“關(guān)于額外出口管制的聲明”文章，文章中稱(chēng)將對(duì)最先進(jìn)的沉積和浸沒(méi)式光刻機(jī)(DUV)實(shí)施出口管制措施。但ASML也表示，此次并不適用于所有浸潤(rùn)式DUV設(shè)備，只涉及所謂“最先進(jìn)”的浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)(DUV)，即TWINSCAN NXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)。


 

ASML官網(wǎng)消息


 

 

ASML公司 浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)(DUV)

 


  ASML公司官網(wǎng)信息顯示，該公司DUV光刻機(jī)產(chǎn)品共有三款設(shè)備：TWINSCAN NXT：1980Di，TWINSCAN NXT：2000i和TWINSCAN NXT：2050i，其中2000i和2050i兩款是公司在聲明所指的“最先進(jìn)”的浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)。

  光刻機(jī)主要分為極紫外線(EUV)光刻機(jī)和深紫外線(DUV)光刻機(jī)，DUV光刻機(jī)可以用于制造7nm及以上制程的芯片，EUV主要用于7nm及以下先進(jìn)芯片制造工藝。

 

ASML光刻機(jī)型號(hào)及制程

光源

光刻機(jī)型號(hào)

可實(shí)現(xiàn)制程

DUV

NXT:1980Di

14nm,10nm

NXT:2000i

7 nm

NXT:2050i

7 nm,5nm

EUV

NXE:3400C

7 nm,5nm

NXE:3600D

5 nm,3nm

數(shù)據(jù)來(lái)源：ASML官網(wǎng)

 

 

  早在2018年，美國(guó)政府游說(shuō)荷蘭政府禁止ASML對(duì)華出口EUV光刻機(jī)，ASML無(wú)法向中國(guó)出口EUV光刻機(jī)。

  ASML此次禁售TWINSCAN NXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)(DUV)，將大大影響我國(guó)14nm以下制程芯片的突破，目前尚未知已售的TWINSCAN NXT：2000i及后續(xù)推出的浸潤(rùn)式光刻系統(tǒng)后續(xù)維護(hù)保養(yǎng)是否受到影響。

  3月9日，ASML回應(yīng)新出口管制：需要一定時(shí)間才能付諸立法并生效。

 



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